NF3气体在高能化学激光、电子工业(IC)以及太阳能光电产业等方面具有非常广泛的应用。目前，昊华气体拥有一条年产2000吨的NF3生产线，其生产工艺、设备均处于国内领先地位。
产品特性
NF3在室温和大气压力下是无色、稳定和有毒的气体。相对分子质量为71.002，沸点为-129.06℃。
应用说明
三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在蚀刻时，在蚀刻物表面不留任何残留物，是非常良好的清洗剂。